二氧化硅溶膠混合三級乳化機主要用于微乳液及超細懸乳液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。
二氧化硅溶膠混合三級乳化機
納米二氧化硅分散體粉液混合機,二氧化硅的表面改性粉液混合機,二氧化硅分散體粉液混合肌,陽離子化二氧化硅分散體混合機 是是使幾種不同的原材料在輸入能量的作用下融合在一起的過程。被混合物質(zhì)混合而成的形態(tài)很難估計。我們必須考慮由于聚集狀態(tài)、化學(xué)和物理特性不同所導(dǎo)致的差異。物質(zhì)的密度(堆積密度)和粘度等參數(shù)在混合過程中具有重要意義。這些參數(shù)將幫助確定能量的需要量、可能的互溶性和混合物的穩(wěn)定性。
微孔型介質(zhì)一般采用亞微米級的氧化鋁或氣相法二氧化硅分散液作為無機顏料, 分散粒徑D50僅為ieOnm左右甚至更小,加入高分子聚合物后,在成膜過程中形成極細微的 無機_有機復(fù)合微粒。在掃描電子顯微鏡下,可觀察到大量微孔和亞微孔組成的孔隙,這些 孔隙多為連通孔,由于這些孔隙小于人眼分辨能力,視覺上呈現(xiàn)連續(xù)高光亮的光澤。而膨潤 型為平整連續(xù)的聚合物薄膜,在20000倍掃描電子顯微鏡下的顯微形態(tài)截然不同。
納米多孔二氧化硅的表面改性方法,其中通過用三 價鋁化合物例如水合氯化鋁與至少一種氨基有機硅烷的反應(yīng)產(chǎn)物處理,將氣相法二氧化硅 改性。然后,將改性的納米多孔二氧化硅摻合到用于噴墨打印的納米多孔記錄介質(zhì)的吸墨 層中。所述改性方法的優(yōu)點在于分散體的存儲穩(wěn)定性得到改善,紀錄介質(zhì)的圖像質(zhì)量也 有所改進。
二氧化硅先用三價鋁化合物分散于溶液中,形成預(yù)分散體,然后采用至少一種氨基有機硅烷加入分散體進行表面改性。
三級高剪切分散機器,主要用于微乳液及超細懸乳液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同工藝應(yīng)用。該系列中不同型號的機器都有相同的線速度和剪切率,非常易于擴大規(guī)?;a(chǎn)。也符合CIP/SIP清潔標準,適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細為懸浮乳液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,其剪切速率可以超過15000rpm,轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。
二氧化硅溶膠混合三級乳化機
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XRS2000/4 | 300-1000 | 18000 | 44 | 2.2 | DN25 | DN15 |
XRS2000/5 | 1000-1500 | 10500 | 44 | 7.5 | DN40 | DN32 |
XRS2000/10 | 3000 | 7300 | 44 | 15 | DN50 | DN50 |
XRS2000/20 | 8000 | 4900 | 44 | 37 | DN80 | DN65 |
XRS2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 55 | DN150 | DN125 |
XRS2000/50 | 40000 | 2000 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |